23 08 2018

Chińsko – Polski Konkurs „Art & Design”

Politechnika Poznańska, wchodząca w skład Chińsko–Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego, zaprasza do udziału Chińsko–Polski Konkurs „Art & Design” na projekt znaku graficznego Konsorcjum (logo).

Konkurs jest dwuetapowy. Pierwszy etap jest organizowany na Politechnice Poznańskiej. Nagrodzone prace zostaną wysłane na drugi etap, który odbędzie się w Beijing University of Technology w Pekinie pod koniec roku.

Prace konkursowe można składać do 10 września 2018r. w Dziekanacie Wydziału Architektury Politechniki Poznańskiej. Łączna pula nagród w I etapie wynosi ok. 15 000 zł.

Regulamin konkursu, kartę zgłoszeniową, ważne terminy oraz informacje znajdą Państwo na stronie internetowej 

Serdecznie zapraszamy studentów oraz pracowników Politechniki Poznańskiej do wzięcia udziału w konkursie!